Tibco News, 30 juni, de Nederlandse regering heeft de laatste regelgeving uitgevaardigd over de exportcontrole van halfgeleiderapparatuur. Sommige media interpreteerden dit als de controle op fotolithografie tegen China opnieuw escaleerde naar alle DUV.In feite zijn deze nieuwe exportcontroleregels gericht op geavanceerde productietechnologieën van 45 nm en lager, waaronder de modernste ALD-apparatuur voor atomaire depositie, apparatuur voor epitaxiale groei, apparatuur voor plasma-depositie en immersielithografiesystemen, evenals de technologie en software die worden gebruikt om dergelijke geavanceerde apparatuur te gebruiken en te ontwikkelen.
In een verklaring aan Tibco benadrukte ASML dat de nieuwe exportcontroleregels van de Nederlandse overheid slechts betrekking hebben op enkele van de nieuwste DUV-modellen, waaronder de TWINSCAN NXT:2000i en daaropvolgende immersielithografiesystemen.EUV-lithografie was eerder beperkt en de verzending van andere systemen wordt niet gecontroleerd door de Nederlandse overheid.Volgens de officiële website-informatie van ASML, DUV-immersielithografiesysteem, inclusief: TWINSCAN NXT:2050i, NXT:2050i, NXT:1980Di drie lithografiemachines, deze kunnen 38 nm ~ 45 nm proceswafelverwerking uitvoeren.
Bovendien zijn droge DUV-lithografiemachines die waferverwerking boven 45 nm kunnen verwerken, zoals 65 nm ~ 220 nm-processen, zoals TWINSCAN XT:400L, XT:1460K, NXT:870, enz., niet opgenomen in de Nederlandse sanctielijst.
De Nederlandse controlelijst, zoals vertaald door Tibco, luidt als volgt:
Verordening MinBuza.2023.15246-27, uitgevaardigd door de Minister van Buitenlandse Handel en Ontwikkelingssamenwerking van Nederland, voorziet in vergunningseisen voor de export van geavanceerde productieapparatuur voor halfgeleiders die niet eerder genoemd zijn in bijlage I van Verordening nr. 2021/821 (met betrekking tot geavanceerde halfgeleiderapparatuur fabricage-apparatuur)
Artikel 2: Deze regeling verbiedt de export van geavanceerde halfgeleiderproductieapparatuur vanuit Nederland zonder toestemming van de Minister.
Artikel 3:
1. De aanvraag voor de vergunning, bedoeld in artikel 2, wordt gedaan door de exporteur en ingediend bij de officier van justitie.
2. De aanvraag bevat in ieder geval:
a）de naam en het adres van de exporteur;
b）Naam en adres van de ontvanger en eindgebruiker van de geavanceerde halfgeleiderproductieapparatuur;
c）Naam en adres van de ontvanger en eindgebruiker van de geavanceerde halfgeleiderproductieapparatuur.
3. De officier van justitie heeft in ieder geval het recht om van de exporteur te verlangen dat hij het exportcontract en een verklaring over het eindgebruik verstrekt.
Artikel 4:
Aan de vergunning, beschreven in artikel 2, kunnen voorwaarden en bepalingen verbonden zijn.
Het verlenen van de licentie zoals beschreven in artikel 2 kan met kwalificaties bestaan.
Artikel V:
De in artikel II genoemde vergunningen kunnen in de volgende gevallen worden ingetrokken:
a) De vergunning is afgegeven op basis van onjuiste of onvolledige informatie;
b) De voorwaarden, bepalingen en beperkingen van de licentie zijn niet nageleefd;
c)Om redenen van nationaal buitenlands en veiligheidsbeleid.
Posttijd: 02 juli 2023